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解决方案

15.100版本更新包含以下内容：

Features:

1.新增MASK命令来创建在遮挡区域的一个阵列（array）。它可以评估通过手机屏对图像的影响。例如，手机内的微型相机镜头被放置在屏幕后面，在屏幕后面，它必须通过荧光显示屏阵列。这实际上是一组微小的不透明区域遮挡了入射光束。这就是MASK的用途。

2.自由曲面的分析工具FFA得到了增强。现在它不仅可以计算Zernike形状，该形状适用于小面积的母体非球面。而且实际上，它会在偏离CAO中心的新位置将该区域重新塑造成新的形状。这与实际制造的零件相对应。

FFBUILD现在允许您为间距像差指定一个权重，这可能会影响搜索的方向。

Bugs Fixed:

1.修复了搜索按钮在Graphics Window工具栏中无效的漏洞。

修复了当物空间不在空气中时，绘图程序发生错误的漏洞。

15.99、15.100 版本更新内容，请查看武汉墨光官网：//www.na-yun.com/news.php